首要简略来说一下光刻机，光刻机作为半导体职业中重中之重的利器，中科院光电所的胡松、贺晓栋在《中科院之声》宣布的一篇文章中这样介绍它的重要性：后工业年代包含现在的工业3.0、工业4.0，都以芯片为根底，光刻机作为制作芯片的东西，就相当于工业年代的机床，前工业年代的人手。
五代光刻机
依据所运用的光源的改善以及工艺的不断创新，光刻机阅历了五代产品的开展，其间每次光源的改善都明显提升了光刻机所能完成的最小工艺节点。
国产光刻机为何“难产”
尽管中芯世界表明可以不运用光刻机，用自研的“N+1”制程工艺就可以研宣布7nm工艺（逼得中芯都直接不必光刻机了），但5nm甚至更先进制程工艺芯片产品也是离不开光刻机的。
据音讯称，华为现在所规划的芯片现已正式进入到了5nm年代，行将鄙人半年推出的麒麟1020芯片就会选用5nm芯片工艺。
此外，近期国产光刻机也迎来好音讯:上海微电子公司打破封闭,研宣布 22nm 光刻机。尽管与国外距离还很大，但这也是我国在光刻机范畴的先进水平。
信任未来跟着国产自主研制的脚步，咱们能脱节对国外厂商的依靠，国产芯片能完成飞速开展。但在未来之前，还有很长一段路要走。
